4.バイオ技術によるナス台木等の新品種の育成 (3)イオンビーム照射による変異誘発技術の確立

課題名 4.バイオ技術によるナス台木等の新品種の育成 (3)イオンビーム照射による変異誘発技術の確立
研究機関名 福岡県農業総合試験場
研究分担 バイオテクノロジー部
研究期間 継H15~17
年度 2003
摘要 ナス台木の青枯病抵抗性系統を育成するために、ヒラナスの小胞子にイオンビームを照射して突然変異を誘発したのち、純系の植物体を再生させる。イオンビーム照射のための包埋条件、包埋容器及び照射線量等を検討した。小胞子の包埋には、ゲランガム0.2%、φ35mmのプラスチックシャーレが適することが明らかになった。また、C6+イオンビームを1~40Gyの範囲で照射した結果、2Gy以上でカルス形成は急激に低下し、2~5Gyの間でカルス形成率は無照射の50%以下に低下した。20及び40Gyの高線量でも、わずかにカルス形成が認められた。
研究対象 ナス台木
戦略 園芸、ゲノム等先端
専門 育種
部門 野菜
カテゴリ 青枯れ病 育種 新品種 台木 抵抗性 なす

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