| 課題名 | 4.バイオ技術によるナス台木等の新品種の育成 (3)イオンビーム照射による変異誘発技術の確立 |
|---|---|
| 研究機関名 |
福岡県農業総合試験場 |
| 研究分担 |
バイオテクノロジー部 |
| 研究期間 | 継H15~17 |
| 年度 | 2003 |
| 摘要 | ナス台木の青枯病抵抗性系統を育成するために、ヒラナスの小胞子にイオンビームを照射して突然変異を誘発したのち、純系の植物体を再生させる。イオンビーム照射のための包埋条件、包埋容器及び照射線量等を検討した。小胞子の包埋には、ゲランガム0.2%、φ35mmのプラスチックシャーレが適することが明らかになった。また、C6+イオンビームを1~40Gyの範囲で照射した結果、2Gy以上でカルス形成は急激に低下し、2~5Gyの間でカルス形成率は無照射の50%以下に低下した。20及び40Gyの高線量でも、わずかにカルス形成が認められた。 |
| 研究対象 | ナス台木 |
| 戦略 | 園芸、ゲノム等先端 |
| 専門 | 育種 |
| 部門 | 野菜 |
| カテゴリ | 青枯れ病 育種 新品種 台木 抵抗性 なす |