花きの育種及び栽培技術の確立 　(2)イオンビーム照射によるキク優良系統の選抜　

• 研究機関名: 福岡県農業総合試験場
• 研究分担: 花き部
• 研究期間: 完H12～16
• 年度: 2004
• 摘要: イオンビーム照射による突然変異法を活用し、有用な形質を持ったキクの品種を育成する。平成14年には2次選抜した‘秀芳の力’の6系統について季咲き栽培における特性を調査した結果、花弁数が多く、実用的な形質を供えた系統としてNo.91を選抜した。; 14年度は、秋ギク「神馬」の葉片にイオンビームを照射して得られた系統について、電照抑制11月出し栽培において優良系統を選抜した。選抜系統は、開花が早く茎葉重の重い2系統および腋芽発生数の少ない2系統、筒状花が特に少ない3系統、さらに筒状花が比較的少なく、舌状花が多く、花形の優れる6系統であり、合計13系統を選抜した。; 16年度には、上位葉のボリュームがあり切り下株の萌芽性の良い、在来系「神馬」に代わる有望な1系統を選抜した。
• 研究対象: キク
• 戦略: 園芸
• 専門: 育種
• 部門: 花き
• カテゴリ: 育種 馬 きく 栽培技術 品種