イチゴ細胞培養系における変異の誘起と制御（５４）

• 課題番号: 1992001534
• 研究機関名: 野菜・茶業試験場（野菜茶試）
• 研究分担: 久留米・育種２研
• 研究期間: 継Ｈ０２～Ｈ０４
• 年度: 1992
• 摘要: 葯壁由来カルスに対するＸ線照射では，生存率及び生長量からみて１０ＫＲ程度が上限であったが，カルスからの植物体再分化率を考慮すると上限は２．５ＫＲ程度であった。また葯に対するＸ線照射では，カルス形成及び再分化からみて２．５ＫＲ程度が上限であった。さらに葯壁由来カルス及び茎頂組織に対するＭＮＵ（５ｍＭ）処理では，処理時間とともに再分化率あるいは生長量が低下したが，処理上限値は推定できなかった。なお低度の変異源処理（Ｘ線１ＫＲないしＭＮＵ１０分間処理）では，葯壁由来カルスからの再分化促進効果が認められた。
• カテゴリ: 育種 いちご 遺伝資源