遺伝地図情報を利用したイネ有用遺伝子の単離

• 課題番号: 2002002694
• 研究機関名: 農業生物資源研究所
• 研究分担: 農業生物資源研究所 植物生命科学研究部門 分子遺伝研究グループ 応用遺伝研究チーム; 農業生物資源研究所 植物生命科学研究所 生体高分子研究グループ 生体膜機能研究チーム
• 研究期間: 継続2001～2002
• 年度: 2002
• 摘要: 紫外線抵抗性遺伝子に関しては、候補ゲノム領域内に存在するPhotolyaseが有力な候補であることを確認し、相補性検定にむけて形質転換体の作出を行った。病斑葉遺伝子に関しては候補ゲノム領域の絞り込みの結果、約125kbの領域内に存在することを明らかにした。着粒数に関与する遺伝子については、候補ゲノム領域を10kb以下に特定し、候補遺伝子を特定した。種子幅に関与する遺伝子については、相補性検定にむけて形質転換体を作出している。節間伸長性に関与する遺伝子 および出穂期関連遺伝子については、候補遺伝子の形質転換体を作出し、相補性検定を行っている。光信号伝達経路の解明については、開花促進遺伝子Ehd1がFT相同遺伝子の発現を制御していることを明らかにした。さらに、光量子測定計を用いた遺伝子発現の経時的モニター系の条件検討をcab1r::lucの系で行った。トランスポゾンを利用するキメラ植物作成に必要なベクターは作成中。密穂(dense panicle)突然変異の原因遺伝子のうち、Dn1及びdn3、そしてdn3によく似た表現型を示すur2（枝梗湾曲、undulated rachis）の概観調査と、マップベースクローニングを目指した。Dn1は6.5cM、ur2は6.4cM離れた2個のPCRマーカー間に座乗していることがわかり、それら2マーカーの間での組換え個体をそれぞれ選抜した。又、Tos17レトロトランスポゾンパネル約2,000系統からdn3、ur2に類似した2系統をスクリーニングした。
• カテゴリ: 抵抗性遺伝子