発生要因の解明

• 研究機関名: 山梨県果樹試験場
• 研究分担: プロジェクト
• 研究期間: 継(H20)～(H24)
• 年度: 2009
• 摘要: 試験１ 遮光・被覆条件が発生に及ぼす影響、 露地の試験樹をビニール＋寒冷紗被覆、寒冷紗被覆する区を設け、発生に及ぼす影響を検討した。かすり症の発生率、発生度とも通常の露地栽培条件よりやや高くなった。ビニール被覆＋寒冷紗区は昼間の気温が高く経過した。発生は寒冷紗のみより少なく、寒冷紗による遮光条件が発生を助長することが示唆された。、試験２ 葉の蒸散抑制が発生に及ぼす影響、 蒸散抑制剤を新梢全面あるいは果房全面に処理したところ、無処理区に比べかすり症の発生がやや増加する傾向にあった。今後は多発園の樹体条件と比較する中で検討が必要である。、試験３ 「シャインマスカット」のかすり様症状の検討 （予備試験）、 「シャインマスカット」のかすり様症状の発生を抑制するため、光透過率の異なるカサ、袋を使用した。遮光率が高いカサや袋を使用しても発生率、発生度は軽減しなかった。また、発生果粒は果粒が小さく糖度が高い特徴があった。
• カテゴリ: 栽培条件 光条件 ぶどう