イチゴ「さがほのか」の先絞り果発生要因解明と定植後の高温回避による安定栽培技術の開発

• 研究機関名: 佐賀県上場営農センター
• 研究分担: 研究部; 畑作・経営研究担当
• 研究期間: 継H20～23
• 年度: 2009
• 摘要: 目的：最近，急増しているイチゴ「さがほのか」の先絞り果発生要因解明と定植後の高温回避による安定栽培技術を開発する。、成果：(1)先絞り果は，12月に初発し，その後，1～3月は発生割合が低くなるものの，4月になると再度増加した。(2)施肥量の違いと先絞り果発生との関係は，株当たり窒素施肥量1gが最も多く発生し，次いで3g，5gの順に少なくなり，施肥量が少ないほど発生することが明らかになった。(3)潅水量の違いと先絞り果発生との関係は，潅水量が多いほど発生割合が高くなり，その傾向は施肥量が少ないほど顕著であった。(4)微量要素資材の施用の有無と先絞り果発生との関係は，無施用区が施用区に比べて多発し，その傾向は施肥量が少ないほど顕著であった。(5)籾殻主体培地の栽培年数と先絞り果発生との関係は，１年目の培地が5年目および6年目に比べて発生果数が多かった。(6)定植後に寒冷紗を被覆することで昼間の地温が低くなり，定植前マルチ栽培の第1次腋果房の花芽分化の開始時期が早かった。、、
• カテゴリ: 安定栽培技術 いちご 栽培技術 施肥 発生要因分析