高水分大豆のしわ粒発生機構の解明による品質保持技術の開発（８８）

• 課題番号: 1994002718
• 研究機関名: 北陸農業試験場（北陸農試）
• 研究分担: 地域基盤・機械施設研
• 研究期間: 完Ｈ０３～Ｈ０５
• 年度: 1994
• 摘要: 生脱穀された高水分大豆をしわ粒や裂皮粒の発生なしに乾燥する実用的な技術は、未だ確立されていない。そこで、乾燥に起因するしわ粒、裂皮粒の発生機構を解明し、新たな乾燥技術を開発する。送風温湿度条件別被害粒発生割合のエンレイ、タチナガハ等の品種間差は大きいが、いずれも高温高湿条件で被害粒の発生が少なく、かつ高速に乾燥が行えた。有限要素法による乾燥中の粒内水分応力の推定値は、大豆表面の腹で最高となり実際の裂皮発生場所、方向ともに一致した。大豆表皮の引張破壊応力は約９ＭＰａであったので、乾燥中の最大応力を８．５ＭＰａ以下にするような送風湿度制御パターンを求め実測値と比較した結果、両者はほぼ一致し、許容被害粒発生割合以下で高速度乾燥が可能であった。容量約３００ｋｇの大豆用調湿乾燥機を試作したが、湿度制御範囲は３０℃－５０％ＲＨ又は３５℃－４５％ＲＨにとどまった。循環による機械損傷や汚粒の発生は間欠循環運転で発生を抑制できた。これらの成果は平成４年度、５年度研究成果情報として公表される。残された厚層乾燥の数値解析や循環型調湿乾燥機の調湿法・制御法の改良等は「高品質輪作」後期課題「高水分大豆の高品位・高速度乾燥技術の開発」で取り組む。
• カテゴリ: 乾燥 しわ粒 水田 大豆 品質保持 品種 輪作