| タイトル | イネの紫外線抵抗性を付与する遺伝子 |
|---|---|
| 担当機関 | (独)農業生物資源研究所 |
| 研究期間 | 2001~2005 |
| 研究担当者 |
井沢毅 山本伸一 上田忠正 矢野昌裕 |
| 発行年度 | 2003 |
| 要約 | イネは品種により紫外線抵抗性が異なるが、この差の主な原因となる遺伝子を単離した。その遺伝子を紫外線感受性イネに導入することにより紫外線抵抗性を付与できる。 |
| キーワード | 紫外線抵抗性、量的形質遺伝子座(QTL)、マップベースクローニング、光回復酵素、形質転換イネ |
| 背景・ねらい | フロンガス等によるオゾン層の破壊により地上に届く紫外線量の増加が危惧される中、その作物の生育への影響が注目されている。イネの品種間には紫外線に対する抵抗性の程度に関して変異が認められており、日本晴(日本型品種;紫外線抵抗性)とKasalath(インド型品種;紫外線感受性)の雑種後代を利用した解析によって少なくとも3つの量的形質遺伝子座(QTL)の関与が明らかとなっている。本研究では、そのうち寄与率の最も大きな第10染色体上のQTLをマップベースクローニング法により単離・同定する。 |
| 成果の内容・特徴 |
図1 図2 図3 図4 図5 |
| 成果の活用面・留意点 |
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| 図表1 | ![]() |
| 図表2 | ![]() |
| 図表3 | ![]() |
| 図表4 | ![]() |
| 図表5 | ![]() |
| カテゴリ | 抵抗性 品種 |
| 福島県における水稲新品種候補「ふ系糯178号」の採用 |
| イネいもち病圃場抵抗性遺伝子<i>Pi34</i>の遺伝地図上の位置 |
| イネ種子寿命を制御する量的形質遺伝子座 |