施設ギクの養液土耕栽培における灌液回数

• 担当機関: 香川県農業試験場
• 研究期間: 1999～2000
• 研究担当者: 高木真人; 松本由利子; 藤村俊夫
• 発行年度: 2000
• 要約: 施設ギクの養液土耕栽培における灌液回数は、根の分布と根量に影響し、1日1回灌液に比較して1日3回灌液において畝内の根の水平分布が均一となり、切り花長のそろいが良好となる。
• 背景・ねらい: 養液土耕栽培における適正な灌液技術を確立する為、1日の灌液回数が根の分布に及ぼす影響を調査すると共に、生育と収量性に及ぼす影響を調査する。

成果の内容・特徴

1. 畝中央に1本の点滴チューブを設置した場合、畝内の根の水平分布は１日の灌液回数によって異なり、1日1回の場合には株の定植位置で多く、点滴チューブ直下の畝中央で少なくなる。しかし、これを３回に分けることで畝中央にも均一に分布し、２度切り栽培では総根量が増加する（図１、２）。
2. 切り花本数は１、2番花ともに灌液回数の影響は認められない。しかし、切り花長は1日の灌液回数を３回に分けることで均一になり、長くなる。（表１、２）。　

成果の活用面・留意点

1. 本県島嶼部畑作地帯に多い花崗岩風化土壌畑に適応可能である。
2. 栽培時期別の適正灌液量については別途検討が必要である。

• カテゴリ: 栽培技術